ICP金屬混標(biāo)的純度測定方式

 

　　1.直接測定

 

　　用液相的峰面積歸一法，這樣測不是很科學(xué)。比如說你采用254nm的波長檢測，有些雜質(zhì)在這個波長處的響應(yīng)值很低，這樣這些雜質(zhì)的量即使很高也不會在圖譜上顯示出來，得出的面積歸一化結(jié)果也不可信。用液相測注意兩點(diǎn)：1.波長的選擇，盡可能的選擇短波長。2.濃度的選擇，也是盡可能選擇高濃度，不然就是有雜質(zhì)，你的機(jī)器也看不見！直接測定法還有直接滴定和對照品法以及內(nèi)標(biāo)法等。

 

　　2.間接測定

 

　　間接測定是首先知道它的雜質(zhì)的含量是多少，我們再間接測定樣品的含量。簡單的說就是：純度＝100％-雜質(zhì)含量％

 

　　雜質(zhì)通常包括水分、無機(jī)雜質(zhì)（比如硫酸鹽、氯化物等）、有機(jī)殘留等。

 

　　如果想要在市場中站穩(wěn)腳跟，那么在觀念上就有先有一定的轉(zhuǎn)變，因為許多人往往只會注重眼前的話題，盡管他們都知道創(chuàng)新能夠?qū)⑵髽I(yè)帶上一個臺階，但是由于創(chuàng)新的研發(fā)周期長，前期投入大、風(fēng)險高等原因讓許多企業(yè)放棄創(chuàng)新，選擇盲目跟風(fēng)，ICP金屬混標(biāo)但是產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)雷同，競爭力會被明顯削弱，盡管能夠取得眼前利益，但是容易市場淘汰，但如果將創(chuàng)新作為企業(yè)的理念和信仰，那就能在市場中站位腳跟。

 

　　其次就是在管理制度上創(chuàng)新，很多時候，人們并不缺乏創(chuàng)新能力，但是缺乏創(chuàng)新的環(huán)境，而ICP金屬混標(biāo)企業(yè)想要培養(yǎng)創(chuàng)新能力，就不能忽視管理制度的配套。比如，想要大力培養(yǎng)創(chuàng)新性人才，那就不能忽視人才的培養(yǎng)計劃以及留住人才的相關(guān)制度，這樣才能讓人才安心從事創(chuàng)新工作。